超純水ってはじめて知りました。この物の歴史について考えました。
1960年代に生産が拡大した、トランジスタやブラウン管の製造工程における洗浄用として、脱イオンと精密ろ過による高純水、高度純水が広く利用されていた。 しかし集積回路の登場により、比抵抗率では評価しきれない不純物（微粒子など）による製品歩留まりの低下・限界が問題となった。高度蒸留水の使用も一部で試みられたというが、おそらくコスト面で普及しなかった。
そして1970年代に登場・普及したLSIの製造工程では、完全にトリクロロエチレン、トリクロロエタンなどの有機溶媒に取って代わられ、半導体産業における洗浄用水の利用は衰退していった。ところが、1980年代に顕在化した土壌汚染、地下水汚染にこれらが大きく関与していたため、代替品として再び需要が高まる事になる。
大規模火力発電所や原子力産業向けの需要に応じ、製造技術は向上を続けていたものの、微細な集積回路のパターンを相手とする超純水製造装置の開発は多くの課題を抱えていた（なかには水質ではなく水そのものの物理的性質、例えば有機溶剤に比し桁外れに大な表面張力の克服なども含まれていた）
洗浄する水に少しでも不純物が残っていると、回路パターンを短絡させたり、不純物半導体の組成を乱すなどの影響を及ぼすため、今日に至るまで、半導体素子の性能向上や回路パターンの微細化に伴って、超純水の不純物を減らし洗浄効果を高めるための様々な研究開発が続けられてきている。
技術者はこれら難題をひとつずつ解決し、今日もなお人知れずムーアの法則に挑み続けている。
目下の課題は素子自体の大型化・複層化による（微粒子１粒による被害が発生する）単位面積の増大と、（微粒子の直径に対する許容限界を引き下げる）パターン線幅の狭小化に応えつつの、コスト削減（それも劇的な）要求への対応である。
また最近では、半導体素子の製造以外の分野でも使われるようになってきた。研究室での超純水利用の需要拡大に応じ、ラボ用の超純水製造装置が相次いで市場に登場している。
引用：『ウィキペディア（Wikipedia）』
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